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Sol-Gel-Verfahren für die Herstellung von Zirkoniumdioxidschichten

Schichtcharakterisierung und Anwendung als Hartmaskenmaterialien in der Halbleitertechnik

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Das Buch behandelt das Spin-Coating-Verfahren zur wirtschaftlichen Beschichtung von 300 mm Silizium-Wafern mit Zirkoniumdioxid-Schichten. Durch Sol-Gel-Transformation werden anpassbare feste Schichten erzeugt, die hervorragende Dichte- und Härteeigenschaften aufweisen. Die entwickelten Strategien ermöglichen die Herstellung nanokristalliner Zirkoniumdioxid-Filme, die als Hartmaskenmaterialien dienen können. Anhand spezifischer Ätzversuche wird das Anwendungspotenzial verdeutlicht, während analytische Untersuchungen wichtige Erkenntnisse zum Temperverhalten der Sol-Gel-Schichten liefern.

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Sol-Gel-Verfahren für die Herstellung von Zirkoniumdioxidschichten, Cornelia Klein

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