Knihu momentálně nemáme skladem
Parametry
Nákup knihy
Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD, Josef Stein
- Jazyk
- Rok vydání
- 1999
Jakmile ji vyčmucháme, pošleme vám e-mail.
Doručení
Platební metody
Navrhnout úpravu
- Titul
- Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD
- Jazyk
- německy
- Autoři
- Josef Stein
- Vydavatel
- Shaker
- Vydavatel
- 1999
- ISBN10
- 3826562186
- ISBN13
- 9783826562181
- Kategorie
- Skripta a vysokoškolské učebnice