Knihu momentálně nemáme skladem
EMC 2003
Autoři
Parametry
Více o knize
Inhalt: In diesem Tagungsband werden u. a. Themen aus folgenden Bereichen behandelt: Advanced Mask Technology, Mask Defect and Inspection, Photomask Pattering, Mask Metrology and Measurements, Optical Proimity Correction and Resolution Enhancement techniques, Next generation Mask (NGM), Next Generation Lithography (NGL), Mask Error Enhancement Factor, MEEF, Concept of Manufacturing Procedures, EMC, OPC., u. a. Die GMM-Fachberichte können auch im Abonnement bezogen werden!
Nákup knihy
EMC 2003, Uwe Behringer
- Jazyk
- Rok vydání
- 2003
Jakmile ji vyčmucháme, pošleme vám e-mail.
Doručení
Platební metody
2021 2022 2023
Navrhnout úpravu
- Titul
- EMC 2003
- Jazyk
- německy
- Autoři
- Uwe Behringer
- Vydavatel
- VDE-Verl.
- Rok vydání
- 2003
- Vazba
- měkká
- ISBN10
- 380072748X
- ISBN13
- 9783800727483
- Série
- GMM-Fachbericht
- Kategorie
- Skripta a vysokoškolské učebnice
- Anotace
- Inhalt: In diesem Tagungsband werden u. a. Themen aus folgenden Bereichen behandelt: Advanced Mask Technology, Mask Defect and Inspection, Photomask Pattering, Mask Metrology and Measurements, Optical Proimity Correction and Resolution Enhancement techniques, Next generation Mask (NGM), Next Generation Lithography (NGL), Mask Error Enhancement Factor, MEEF, Concept of Manufacturing Procedures, EMC, OPC., u. a. Die GMM-Fachberichte können auch im Abonnement bezogen werden!